近期国产半导体材料迎来重大进展，光微半导体材料（宁波）有限公司（以下简称：光微半导体）投资的国产3nm超纯溅射靶材产业化项目，已经进入客户验证阶段，预计近期可实现量产。

半导体材料是一类具有半导体性能（导电能力介于半导体与绝缘体之间，电阻率约在1mΩ·cm～1GΩ·cm范围内）、可用来制作半导体器件和集成电路的电子材料。按照实际应用来划分，半导体材料主要分为晶圆材料和封装材料，前者主要是硅片、光掩膜、光刻胶、光刻胶辅助设备、溅射靶、抛光液等；后者则主要包括层压基板、引线框架、焊线、模压化合物等。

和掩膜、靶向材料情况类似，本土企业在特殊气体、光刻胶、蚀刻剂等材料方面，大都属于完成从零到一的破局，在陆续走向高端，并持续扩大自己的市场份额的过程中。因此，我们时不时能够看到本土半导体厂商取得重大进展的消息。

但是，从整体供应市场来看，本土半导体材料产业依然处于起步阶段，包括硅片和光刻胶在内的各个细分环节自给率基本都不足10%，拥有巨大的替代发展空间。后续，相关企业将会持续在细分领域传出好消息，技术达到国际领先水平，实现从无到有，从弱到强的蜕变。

同时，英伟达向M国申请显卡豁免关税，但根本绕不开中国，现在英伟达向M国提出申请显卡豁免关税，一方面说明中国制造是根本不可能绕过的，英伟达是全球最大的显示芯片公司，英伟达存在这个问题，其他公司必然也存在这个问题。另一方面，如果M国最终在相关公司的施压下豁免显卡关税，对国内相关的显卡制造企业来说，也会构成利好。

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